光刻機是半導體原件制造的核心設備之一。應用范圍比較廣泛，按照用途主要可以分為生產芯片的光刻機，用于封裝的光刻機，用于LED制造領域的投影光刻機。本文我們就主要了解一下半導體行業(yè)的光刻機，以及UV能量計在半導體光刻行業(yè)的應用。

一、什么是光刻機

光刻機又名光刻系統(tǒng)、曝光機、對準曝光等。半導體主要用于集成電路。就是利用模板去除晶圓表面的保護膜，將晶圓浸泡在腐化劑中。然后失去保護的部分就會被腐蝕掉形成電路。在這個過程當中光刻機的主要作用就是利用紫外線通過模板去除晶圓表面的保護設備，一般用UV能量計來監(jiān)測紫外線的能量。

所以根據模板的不同光刻機主要可以分為兩種。

1、模板和晶圓的大小一樣，模板不動光刻機動。

2、模板和集成電路的大小一樣，模板隨光刻機的聚焦而移動。

二、光刻機的應用原理

光刻機有不同的光刻方法，其中紫外光刻最為常見。目前紫外光刻在光刻技術中占領主導地位，按照波長可以分為紫外、深紫外和極光紫外。按照曝光方式可以分為接觸接近式光刻和投影式光刻。接觸接近式光刻通常是由汞燈產生的，在半導體行業(yè)的光刻機上通常用球型高壓汞燈，峰值波長通常為365nm。

三、光刻機對半導體行業(yè)的影響。

光刻機經常會容易出現(xiàn)曝光過度或者曝光不足的現(xiàn)象，所以我們一定要正確地控制好曝光時間。這樣才能得到高質量的晶圓電路圖。一般的光刻工藝要經過清洗烘干、涂底、光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等等。越復雜的半導體線路的層數就越多，曝光的過程的控制就嚴格的控制。

所以當光刻機的曝光不足時可能出現(xiàn)線路出現(xiàn)誤差，或者電路圖不清晰軟膠變軟。甚至脫落。脫膠現(xiàn)象。曝光過度會產生圖像偏差或者損壞電子元器件。所以光刻機要對半導體的曝光時間和光照強度都要進行嚴格的監(jiān)控。

四、用儀器來檢測光刻機

林上LS120是一款高壓汞燈專用的UV能量計，所以非常適用于半導體光刻機球形汞燈。儀器的光譜響應范圍為315-400nm，具有以下的特點：

1、取樣速度為2048次/秒，測量精度高。

2、儀器可以連接USB接口，電腦軟件可以詳細地記錄數據，進行曲線分析以及打印輸出測試報告。

3、內置隔熱片，具有耐高溫設計，可長時間運行在100攝氏度的溫度環(huán)境當中。

4、儀器內置容量大，可以記錄3800多條溫度數據，6萬多條功率數據。

林上LS120UV能量計取樣速度快，測量精度高。很適合光刻機對曝光時間和曝光強度的嚴格檢測，詳情可咨詢林上科技官網！